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桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍... 桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍鋁型）?是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，該桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍鋁型）?配500W高性...
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小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜... 小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜儀是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，該小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜儀配150W直流電源，可用于...
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單靶直流磁控濺射鍍膜儀 單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的真空鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。該單靶直流磁控濺射鍍膜儀 15...
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桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜... 桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公自主研發的一款高性價比真空PVD鍍膜設備。桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀用于金屬薄膜的制...
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500W RF 500W ... 500W RF 500W DC三靶磁控濺射鍍膜儀是高速低溫濺射鍍膜儀,該500W RF 500W DC三靶磁控濺射鍍膜儀...
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小型雙靶磁控濺射鍍膜儀 小型雙靶磁控濺射鍍膜儀設備配有一個直流電源一個射頻電源，直流靶可用于金屬及其他導電材料的濺射，射頻電源可用于各種非金屬和...
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UPS三靶磁控濺射真空鍍膜... UPS三靶磁控濺射鍍膜儀體積小，操作簡便，是實驗室制備材料膜的理想鍍膜設備，UPS三靶磁控濺射鍍膜儀采用UPS16節電池...
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帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜，該帶偏壓...