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PLD脈沖激光濺射沉積設備 該PLD脈沖激光濺射沉積系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點、...
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離子源電子束蒸發鍍膜儀 該電子束蒸發方式鍍膜儀，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其...
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高通量超聲波熱解噴涂 高通量超聲波熱解噴涂是通過在加熱的表面上噴涂溶液來沉積薄膜的過程，在該表面上，成分發生反應以形成化合物.用于電池電極和鈣...
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真空熱解噴涂 噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基座上，然后再基底上得到想要的物質結構
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超聲波熱解噴涂機 此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應用中已有相當長的歷史?，F在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中...
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臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜... CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜...
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雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用...
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單靶直流磁控濺射鍍膜儀 單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，...