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靶下置型雙靶DCRF磁控濺... 靶下置型雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀的采用靶下置布局，樣品臺在上方，靶下置型雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有直流和射頻雙電源...
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往復樣品臺雙靶DCRF磁控... 往復樣品臺雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀我公司研發的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，往復樣品臺雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀采用...
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三靶磁控濺射鍍膜儀 TN-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜...
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單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。...
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換位自轉等離子鍍膜儀 本型號等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗，本設備配備換位自轉式樣品臺，用戶可以在觸控屏...
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單靶等離子濺射儀（基礎版） 單靶等離子濺射儀（基礎型）采用二極濺射方式，廣泛用于場發射掃描電鏡或透射電鏡樣品制備或高質量鍍膜試驗。該單靶等離子濺射儀...
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單靶等離子濺射鍍膜儀(標準... 單靶等離子濺射鍍膜儀(標準版)配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性?。該單靶等離子濺射鍍膜儀(標準版)可用于金屬濺...
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單靶等離子濺射鍍膜儀(增強... 單靶等離子濺射鍍膜儀(增強版)配有旋轉可加熱的樣品臺，不僅有效的提升鍍膜的均勻性?而且更具有附著力。該單靶等離子濺射鍍膜...