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單靶射頻磁控濺射鍍膜儀 單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于非金屬膜、光學膜的濺射...
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雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比真空PVD鍍膜設備，雙靶直流磁控濺射鍍膜儀設置兩個500W直流電源，...
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雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀 雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發，雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀兩個300W射頻電源，射頻電源可用于非金屬薄膜的制備，兩個...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)是我公司自主研發的一款高性價比真空實驗室PVD鍍膜設備，雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
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三靶直流磁控濺射鍍膜儀 三靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。三靶直流磁控濺...
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三靶射頻磁控濺射鍍膜儀 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比真空PVD鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。三靶射頻磁控...
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